干式真空泵是半导体制造工艺设备的关键核心零部件,为集成电路、光伏、LED、平板显示、锂电 池等行业的生产设备提供所必需的高度洁净真空环境。

  干式真空泵是半导体制造工艺设备的关键核心零部件，为集成电路、光伏、LED、平板显示、锂电池等行业的生产设备提供所必需的高度洁净真空环境。集成电路是电子信息产业的基石。以干式真空泵为代表的关键核心部件是集成电路装备的重要组成部分，是半导体晶圆厂的必购设备，大范围的应用于半导体生产线。

  国内干式真空泵行业领先者中科仪披露中报，2023年上半年，公司实现营业收入3.51亿元，同比增长73.06%，实现归母净利润6.93亿元，同比增长372.81%，实现扣非净利4405.9万元，同比增长176.46%。截至2023年6月30 日，本公司及下属子公司已获授权专利97 项，其中发明专利81 项、实用新型专利16 项，获得软件著作权26 项。

  受半导体产业的驱动，干式线年代出现，受益于下游集成电路、光伏、LED等行业的持续发展进步，干式真空泵的产品类型持续不断的增加，性能、控制集成度等指标参数显著改善。截至目前，发达国家的半导体相关产业已全部使用干式真空泵，我国近年来也呈现明显的干式真空泵替代油泵的趋势，国内的高端半导体行业已基本使用干式真空泵。

  根据中研普华研究院撰写的《2023-2028年中国干式真空泵行业深度调研与发展的新趋势预测研究报告》显示：

  真空泵是用来产生、改善和维持真空环境的装置，是国民经济各行业应用真空工艺过程中必不可少的设备。近几年，伴随我们国家的经济持续快速地发展，真空泵下游应用行业保持快速增长势头，真空泵应用领域不断拓展，该领域市场空间广阔。

  用在半导体制造的多个工艺环节中， 包括刻蚀、 镀膜、 扩散等等。为了将制作的完整过程控制在更小的尺寸上，越来越需要以更高的精度和均匀性执行更多的半导体制作的完整过程步骤。为实现这一点，半导体工艺必须在极度受控的真空环境中运行。随着功能和电路尺寸的减小，半导体制造中的工艺步骤数量将继续增加，因此导致真空设备需求的增加。此外，小型化还需要新的制造技术，如多模和EUV光刻技术，这将逐步推动半导体制造商采用真空系统。

  从真空泵产业链来看，上游是关键零部件最重要的包含导管、保温罩和加热器;下游真空泵被大范围的应用于制药、化工、食品、电子等行业。

  在石油化工、生物制药、航空航天、电子光伏、金属冶炼、食品加工以及黑科技中的真空隧道行业等领域,真空泵得到普遍应用。集成电路产业已成为国民经济中基础性、关键性和战略性的产业。

  近年来，国家在产业、财税、金融等方面出台多项政策支持集成电路产业高质量发展，包括《新时期促进集成电路产业和软件产业高水平发展的若干政策》、《进一步鼓励软件产业和集成电路产业高质量发展若干政策》、《关于进一步鼓励集成电路产业发展企业所得税政策的通知》、《中国制造2025》、《集成电路产业研究与开发专项资金管理暂行办法》、《国民经济与社会持续健康发展第十三个五年(2016-2020)规划纲要》、《“十三五”国家科学技术创新规划》等，为集成电路装备制造企业的发展创造了良好市场与政策环境的同时，也对产业高质量发展制定了目标与规划。

  我国已超过美国、欧洲和日本，成为全世界最大的集成电路市场。与此同时，物联网、大数据、人工智能、5G通信、智能驾驶等新型基础设施和新型应用领域将带来非常大的芯片增量需求，为干式真空泵产品提供广阔的市场空间。

  全球干式真空泵主要厂商有Atlas Copco、Ebara、Pfeiffer Vacuum、Flowserve、Agilent等，全球前五大厂商共占有大约70%的市场占有率。欧洲是全球最大的干式线%的市场占有率，之后是北美和日本市场，二者共占有大约20%的份额。

  干式真空泵行业报告对中国干式真空泵行业的发展现状、竞争格局及市场供需形势进行了具体分析，并从行业的政策环境、经济环境、社会环境及技术环境等方面分析行业面临的机遇及挑战。还重点分析了重点企业的经营现状及发展格局，并对未来几年行业的发展趋向进行了专业的预判。

  本报告同时揭示了市场潜在需求与潜在机会，为战略投资者选择恰当的投资时机和公司领导层做战略规划提供准确的市场情报信息及科学的决定依据，同时对政府部门也具有极大的参考价值。想了解关于更多干式真空泵行业专业分析，可点这里就可以看中研普华研究院撰写的《2023-2028年中国干式真空泵行业深度调研与发展的新趋势预测研究报告》。

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